服务热线： 美日韩高度垄断的光掩膜市场
来源：ob欧宝最新地址 发布时间：2024-05-23 14:41:49 浏览量：1光掩膜又称掩膜版、光罩、光刻掩膜版等，作为微电子制作的完整过程中的图形转移工具或者母版，承载着图形设计和工艺技术信息，被认为是光刻工艺的“底片”。光掩膜的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下业的基板或晶圆上，以此来实现批量化生产。
随着半导体产业整体需求持续扩张，全球光掩模板规模表现为稳步增长趋势，行业整体技术壁垒深厚，产业集中度高，龙头议价能力高，利润水准高。根据SEMI的数据，2019年全球光掩膜的市场规模达到41亿美元；The Insight Partners预计2027年市场规模达到59亿美元，2019-2027年的复合增速为4.65%。
根据SEMI的数据，全球前三大的光掩膜市场依次是中国台湾（37.92%）、韩国（20.91%）、北美（19.33%），中国大陆仅占比0.6%。随着下游大幅扩产、技术水平提升等行业发展因素，光掩膜的需求有望被带动，预计中国大陆的市场规模占比将迅速提升。
光掩膜产品的优点主要是其在转移电路图形过程中的精确性和可靠性，未来潜在的替代风险是无掩膜技术的大规模使用，但现阶段无掩膜技术因仅能满足精度要求相比来说较低的行业（如PCB板）中图形转移的需求，且其生产效率低下，而不足以满足对图形转移精度要求高以及对生产效率有要求的行业运用，故不存在被快速迭代的风险。
在平板显示光掩膜领域，美国、日本、韩国的光掩膜厂商处于垄断地位。根据Omdia数据，2020年全球各大光掩膜厂商平板显示光掩膜的销售金额前五名分别为福尼克斯、SKF、HOYA、LG-IT和清溢光电。前五名光掩膜厂商的合计销售额占全球平板显示用光掩膜销售额的比例约为88%。根据Omdia，2020年路维光电平板显示光掩膜市场占有率位列全球第八，国内第二。
光掩膜应用于半导体芯片、平板显示、触控、电路板等行业，按照应用领域分类，可大致分为平板显示光掩膜、半导体光掩膜、触控光掩膜和电路板光掩膜。平板显示光掩膜主要使用在于薄膜晶体管液显示器制造、有源矩阵有机发光二极管显示器制造及扭曲/超扭曲向列型液晶显示器制造；半导体光掩膜主要使用在于IC制造、IC封装、半导体器件制造（包括分立器件、光电子器件、MEMS等）及LED芯片外延片制造。
光掩膜生产工艺流程最重要的包含CAM图档处理、光阻涂布、激光光刻、显影、蚀刻、脱膜、清洗、宏观检查、自动光学检查、精度测量、缺陷处理、贴光学膜等环节。作为光刻复制图形的基准和蓝本，光掩膜是连接工业设计和工艺制造的关键，光掩膜的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。
光掩膜产业上游最重要的包含掩膜版设备、掩膜基板、遮光膜、化学试剂等，供应商如日本东曹、日本越信化学、日本尼康、菲力华、石英股份等。中游主要是光掩膜制造，包括日本HOYA、日本DNP、韩国LG-IT、日本SKE、清溢光电、路维光电等。下游包括IC制造、FPD平板显示、触控（TP）、电路板（PCB），主要企业为台积电、英特尔等半导体厂商，以及京东方、天马、TCL等平板显示厂商。
台湾光罩股份有限公司成立于1988年，是世界第四大独立光掩模供应商。企业主要生产用于前端IC制造的光掩模。除三星电子和中芯国际外，台湾光罩是全球前八大代工厂中六家的供应商，包括台积电、联电和格芯。台湾掩模面向40/45nm及以上成熟工艺，着重关注0.35/0.18/011微米和90/65/55nm节点，其目标是扩大90纳米及以下工艺的部署。目前12英寸光掩模占公司销售额的20%以上，并力争将这一比例提升至30%以上。
得益于其支持12英寸晶圆制造的产品销量的增长，公司预计其收入将在2023年同比增长30%，超过100亿新台币（3.252亿美元）。台湾光罩总经理陈立惇指出，公司并未受到地理政治学风险上升的影响，专注于40纳米及以上的成熟制造节点。
展望2023年，业务应该会在第一季度触底，随着新产能陆续投产，客户大单下达，公司业绩将逐季好转。
SK海力士子公司SKC的芯片材料子公司SK Enpulse去年成功开发了空白掩模，并已向潜在客户提供样品。S&S Tech一直是韩国空白掩膜的唯一供应商，SK Enpluse的目标是开发高端空白掩膜，其进入市场可能会扰乱当地的供应链。预计SK Enpulse的目标是赢得附属公司SK海力士。目前，SK Enpluse已成功开发了自己的CMP pad，并获得SK Hynix作为客户。
尽管全球芯片市场不景气，但空白掩膜版的需求仍呈上涨的趋势。这是因为无晶圆厂芯片公司正在利用最近一段时间开发新芯片，并且在此过程中使用了大量空白掩模。
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